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不管是LCD，還是OLED，都與TFT技術有著密切的聯系，所以TFT驅動技術是顯示技術的基礎。
新一代顯示正在往大尺寸、高分辨率、快速響應速度、高對比度、柔性和超薄方向發展，這就對TFT技術提出了更高的要求。目前，TFT有a-Si、Oxide和LTPS三種制備工藝流程，其中Oxide TFT作為新一代TFT技術，具有可大面積制備、抗彎折特性好、成本低、容易集成等優勢，具有廣闊的應用前景。
但是傳統的IGZO材料體系為國外發明，國內不掌握專利，而且其遷移率偏低，穩定性有待提升。華南理工大學教授彭俊彪說：“我們在摻雜稀土的IZO材料體系方面取得了突破，開發了基于鑭系稀土(Ln)的新型IZO靶材(Ln-IZO)配方。Ln-IZO TFT綜合性能可以滿足驅動AMOLED的要求。”
據了解，華南理工大學自主研發的Ln-IZO TFT技術，遷移率可達40cm2/Vs，功耗之低也可以與LTPS TFT相比擬。此外，華南理工大學在柔性AMOLED顯示上取得較大進展，提高了使用壽命。
大尺寸OLED也一直是個難點。彭俊彪說，從印刷顯示技術來看，有沒有可能從TFT到OLED全部用印刷工藝來做?這是一個新的發展趨勢，也是一個新的挑戰，需要進行一些探索。其在OLED方面做過很多的嘗試，早在2005年就采用印刷的方法做OLED，華南理工大學用的一些材料就可以實現高清的輸入。
在OLED上用噴墨打印的技術，墨水非常關鍵，因為如果夾層式的結果有針孔存在，顯示的性能、穩定性等就無法保證，所以把薄膜做均勻的工藝顯得尤為重要。為了解決這個問題，彭俊彪認為，可以從三個方面進行努力，第一是從結構上調整發光材料，第二是控制好配置，第三是控制好基板界面。
目前，其把像素做成條狀結構，一方面提高了打印效果，另一方面提高了良品率。通過多方面的工藝調整以及襯底表面處理，華南理工大學現在可以做到160PPI。但是如果要加上TFT，AMOLED用噴墨打印的方法做，現在看起來還有些問題。彭俊彪說：“這與墨水的材料有關。我們現在的材料體系主要做的是藍光，因為藍光和紅光雖然蒸鍍材料很多，但能用在噴墨打印上還是一個挑戰，所以在材料體系上還需要改進。”
